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晶體出現(xiàn)率分析儀

ZMP-960晶體出現(xiàn)率分析儀是工作原理是通過專用高分辨率 CCD 線性傳感器和顯微光學掃描平臺,將顆粒圖像信息采集下來并傳輸?shù)接嬎銠C中,用專門的顆粒圖像分析軟件對顆粒圖像進行分析。結(jié)合智能的背景分離的顆粒邊界搜索算法,將目標顆粒與背景分離,分析出各種測量參數(shù),并通過顯示器和打印機輸出。

  • 產(chǎn)品型號:ZMP-960
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-04-15
  • 訪  問  量:2199
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詳細介紹

一、結(jié)構原理

ZMP-960晶體出現(xiàn)率分析儀工作原理是通過專用高分辨率CCD線性傳感器和顯微光學掃描平臺,將顆粒圖像信息采集下來并傳輸?shù)接嬎銠C中,用專門的顆粒圖像分析軟件對顆粒圖像進行分析。結(jié)合智能的背景分離的顆粒邊界搜索算法,將目標顆粒與背景分離,分析出各種測量參數(shù),并通過顯示器和打印機輸出。

該儀器具有超大測量范圍及高分辨率,同時具有直觀、可視、準確、操作簡單、測量參數(shù)全面等特點。能夠同時測量顆粒粒度、形狀及表面顏色的新型顆粒分析儀器。

二、產(chǎn)品介紹

ZMP-960晶體出現(xiàn)率分析儀可以直接對透明貼劑中析出的晶體進行掃描,按照規(guī)定掃描范圍進行掃描一定的面積,將其中的晶體識別出來并做數(shù)量統(tǒng)計。軟件可以內(nèi)置公式得出晶體出現(xiàn)率。

三、性能指標

1.測量范圍:1μm ~ 100mm

2.圖像分辨率:900萬像素

3.光學平臺:100mm * 120mm

4 背景光源:反射光

 

 

 

 

 
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